TENCAN predal za rokavice s čistilnim sistemom

Velja za ustvarjanje čistega okolja z odstranjevanjem vode, kisika in prahu.
Raziskave in razvoj ter proizvodnja v industriji baterij (litij-ionske baterije, praškaste baterije, sončne celice, litij-ionske fosfatne baterije).
Raziskave in razvoj ter proizvodnja posebnih svetilk (HD svetilka, metalhalogenidna svetilka, keramična metalhalogenidna svetilka).
Varjenje (uporovno varjenje, TIG varjenje, lasersko varjenje, plazemsko varjenje, spajkanje medenine)
Raziskave in razvoj ter proizvodnja OLED-a
Raziskave in razvoj ter proizvodnja farmacevtskih izdelkov
Raziskave in razvoj ter proizvodnja superkondenzatorjev
Industrija finih kemikalij
Jedrska industrija
Raziskave in razvoj ter proizvodnja novih energetskih materialov

Škatla in sistem za čiščenje sta povezana in tvorita dobro zaprto delovno okolje. Ko se v škatlo neprekinjeno dovaja inertni plin ali dušik, se aktivne snovi v notranjosti škatle krožno odstranjujejo iz škatle, da se notranja škatla ves čas ohranja v visoki čistoči in okolju z visoko stopnjo čistega inertnega plina (vsebnost vode ≤ 1 ppm, vsebnost kisika ≤ 1 ppm).

Rokavica s sistemom za čiščenje je vrsta laboratorijske naprave, ki jo je mogoče napolniti z visoko čistim inertnim plinom, aktivne snovi pa se lahko krožno filtrirajo iz škatle. Imenuje se tudi "vakuumska rokavica z odstranjevanjem vode in kisika" ter "rokavica za čiščenje inertnega plina". Glavne funkcije te vrste rokavice: odstranjevanje vode, kisika in drugih organskih plinov. Pogosto se uporablja za ustvarjanje visoko čistega okolja brez vode, kisika in prahu.

Opombe:
Vsebnost vode in kisika v omari v standardnih pogojih:  
Vsebnost vode ≤1 ppm, vsebnost kisika ≤1 ppm (Opomba: Standardni pogoj je atmosferski tlak, konstantna temperatura 20 stopinj).
Stopnja puščanja: ≤0.05 vol.%/h (odvisno od spremembe vrednosti vsebnosti kisika v škatli)
Uporabljeni plin:
a) Delovni plin: N2, Ar, He itd.
b) Krmilni plin: stisnjen zrak ali inertni plin.
C) Obnovitveni plin: Mešanica delovnega plina in vodika.
Obnovitev plina je enaka kot delovni plin, če obstaja samo sistem za odstranjevanje vode ali sistem za odstranjevanje kisika.
Opombe: Vse enostranske škatle s 4 rokavicami so sestavljene rokavične škatle. Število sestavljenih škatel je mogoče naročiti glede na potrebe stranke. Količina čistilnih kolon je prav tako zasnovana tako, da se prilagodi zahtevam stranke.

Opombe:
Vsebnost vode in kisika v omari v standardnih pogojih:  
Vsebnost vode ≤1 ppm, vsebnost kisika ≤1 ppm (Opomba: Standardni pogoj je atmosferski tlak, konstantna temperatura 20 stopinj).
Stopnja puščanja: ≤0.05 vol.%/h (odvisno od spremembe vrednosti vsebnosti kisika v škatli)
Uporabljeni plin:
a) Delovni plin: N2, Ar, He itd.
b) Krmilni plin: stisnjen zrak ali inertni plin.
C) Obnovitveni plin: Mešanica delovnega plina in vodika.
Obnovitev plina je enaka kot delovni plin, če obstaja samo sistem za odstranjevanje vode ali sistem za odstranjevanje kisika.
Opombe: Vse enostranske škatle s 4 rokavicami so sestavljene rokavične škatle. Število sestavljenih škatel je mogoče naročiti glede na potrebe stranke. Količina čistilnih kolon je prav tako zasnovana tako, da se prilagodi zahtevam stranke.